QCM法による現像中の膨潤解析

アクリル系のArFレジストは現像中に膨潤することが知られています。
現像中の膨潤の挙動を解析します。解析素露光装置により、QCM基板に塗布したレジストを露光、QCM現像解析装置、RDA-QZ3により現像中の膨潤量を測定します。